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產(chǎn)品中心Products 當前位置: 首頁(yè)> 產(chǎn)品中心 > 系統設備 > CVD系統
  • 1200℃滑動(dòng)式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:4805

    產(chǎn)品用途:此款CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長(cháng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗。

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  • 1200℃雙管滑動(dòng)式單溫區/多溫區CVD系統
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:5119

    產(chǎn)品用途:此款CVD系統是專(zhuān)門(mén)為在金屬箔上生長(cháng)薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究,通過(guò)滑動(dòng)爐實(shí)現快速加熱和冷卻。

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  • CVD系統
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:11851

    CVD系統系周期作業(yè),供企業(yè)實(shí)驗室,大專(zhuān)院校,科研院所等單位選用,設備為用戶(hù)提供具體真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗環(huán)境,應用在半導體,納米技術(shù),碳纖維等新材料新工藝領(lǐng)域。

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