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  • 1200℃滑動(dòng)雙溫區PECVD系統
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:7757

    PECVD系統配置:1.1200度開(kāi)啟式雙溫區真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統4.真空系統(可選配中真空或高真空)

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  • 1200℃預加熱滑動(dòng)雙溫區PECVD系統
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:21248

    PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

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  • 1200℃集成型自動(dòng)小型PECVD系統
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:4984

    PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G

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  • 1200度小型PECVD系統
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:6877

    PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G

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