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  • CVD管式爐
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:5821

    CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶(hù)需要設計生產(chǎn),CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外,現在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

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  • 1200℃雙溫區CVD系統
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    CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶(hù)需要設計生產(chǎn),CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外,現在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

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