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  • 真空快速退火爐
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:4893

    真空快速退火爐操作便捷,電熱元件采用紅外燈管,升溫速度快,節省時(shí)間,滑動(dòng)法蘭使裝卸樣品過(guò)程簡(jiǎn)化,方便操作,可快速得到實(shí)驗結果,取消了反復的法蘭安裝過(guò)程,減少了爐管因安裝造成的損壞。

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  • CVD管式爐
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    CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶(hù)需要設計生產(chǎn),CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外,現在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

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  • 1200℃滑動(dòng)雙溫區PECVD系統
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    PECVD系統配置:1.1200度開(kāi)啟式雙溫區真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統4.真空系統(可選配中真空或高真空)

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  • RTP快速退火爐
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    RTP快速退火爐操作便捷,電熱元件采用紅外燈管,升溫速度快,節省時(shí)間,滑動(dòng)法蘭使裝卸樣品過(guò)程簡(jiǎn)化,方便操作,可快速得到實(shí)驗結果,取消了反復的法蘭安裝過(guò)程,減少了爐管因安裝造成的損壞。

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  • 1200℃雙溫區CVD系統
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    CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶(hù)需要設計生產(chǎn),CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外,現在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

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